技术指标及使用要求:

1、阳极最大电压:300V;阳极最大工作电流10A

2、发射极最大电压:100V;最大工作电流13A

3、维持极最大电压:1500V;最大工作电流2000mA

4、输入电网电压:AC220V±10%最大电流AC25A

5、离子出射角:60°，出射口直径45mm

6、中和器钽管工作寿命:80-200小时(根据使用条件确定)

7、中和器使用气体:纯Ar，纯度>99.999%;

8、阴极最大流量:50sccm，压强≤0.2MPa(建议恒定在0.2MPa

9、源头气体流量:50sccm+50sccm，压强≤0.2MPa

10、工作环境真空度:5*10-2Pa-5*10-3Pa

11、冷却水压强:20.3Mpa，请使用纯净水或过滤水

12、冷却水温度:≤20C°内工作。

中空阴极霍尔离子源广泛应用于:增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜热/冷反光镜、在线清洗等。具有大电流密集性、全束电流和低能量束的特性优化了对各种性能的提高和反应过程。特别适合在工业上的真空应用,能够改善薄膜的生长、优化薄膜结构，增加镀膜的一致性和重复性，低温高速率镀膜，清除工件表面水和碳氢化合物，增加薄膜密度，降低内应力低，清除结合力弱的分子，反应气体活度增加，膜成分易于控制。包括如下:

预清洁-低能量离子束预先清洗和去除表面污染物(水蒸汽、碳氢化合物、天然氧化合物和吸收性材料),以提高薄膜/基层物的附着性。

离子辅助沉积-离子轰击基片有助于薄膜的生长、提高附着力和硬度,同时减少吸收性残余气体的污染物和薄膜应力。

充分借鉴国内外先进的霍尔离子源的优点，具有独特的水冷和密封结构，经多次长时间的实验证明，离子源能够在很大的等离子体束流下长期稳定工作