应用范围
本霍尔离子源用于真空镀膜过程中基底离子轰击清洁及沉积过程中离子轰击能量输送。广泛应用于:增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器、在线清洗等。能够改善薄膜的生长，优化薄膜结构，增加镀膜的一致性和重复性，低温高速率镀膜，清除工件表面水和碳氢化合物，增加薄膜密度，清除结合力弱的分子，反应气体活度增加，薄膜成分易于控制。
产品特点
霍尔等离子体离子源，适合辅助镀膜工艺要求，其突出的特点是小型化、结构紧凑、易于拆装。在制造高质量的光学薄膜时它对改进膜的附着力、致密度、吸收度、折射率有所贡献。JK-530N型霍尔离子源直径$16.2cm，采用永久磁铁并利用极靴，沿轴向产生较大梯度的磁场，在环状的霍尔电流作用下，离子沿轴向加速形成离子束。离子東具有较大的能散度及较大的发散角，水冷阳极可有效降低离子源及工件表面的温度。该离子源电源结构简单，可以实现辅助镀膜所需要的大均匀区的离子東流。单台离子源就可以满足600mm-1600mm镀膜机的离子束辅助镀膜需要。
