在精密光学、半导体封装等高端制造领域，高熔点材料镀膜的均匀性与稳定性一直是制约产能升级的核心痛点，传统设备普遍存在工件膜厚偏差大、束流不稳定等问题。近日，成都天一国泰两台TIV1600真空镀膜设备顺利交付出厂，凭借其自主研发的核心部件与专利技术，为高要求镀膜场景提供了国产化解决方案，彰显了天一国泰在真空应用技术领域的积淀。

TIV1600的性能优势源于核心配置的协同优化，其中射频源六探头与天一电子枪的组合的体现了天一国泰的技术实力。射频源六探头基于天一国泰GTRF系列离子源技术迭代升级，可实现多维度膜厚实时监测，较传统方案精度提升40%，动态修正镀膜偏差。搭配的天一电子枪，融合了天一国泰联合研发的新一代技术与定制化束流控制系统，功率密度稳定达10⁹W/cm²，束流波动控制在±1%内，攻克了钨、钼等2000℃以上高熔点材料的均匀蒸发难题。

设备的稳定表现离不开天一国泰对关键因素的精准把控与制造工艺的严苛要求。依托ISO9001质量体系，天一国泰优化了真空腔体密封结构，采用高强度合金材料制造腔体并进行精细抛光处理，搭配自研闭环温控系统，将残余水汽分压控制在1E-10Torr量级，从源头规避膜层氧化问题。同时，集成公司专利的新型自公转机构，让每个工件在镀膜时实现自转加公转，确保膜厚均匀性误差≤±3%，大幅提升产品良率。

作为国家高新技术企业，天一国泰凭借28项核心专利技术，让TIV1600已在光伏HJT电池、汽车激光雷达镜片等场景成熟落地，可满足减反射膜、耐磨涂层的精密制备需求。顺应行业高精度、低能耗趋势，天一国泰正为该设备集成变频真空系统，预计可降低30%运行能耗，契合双碳目标。

FAQ：

Q：TIV1600的核心技术优势是什么？A：搭载天一国泰专利自公转机构与定制化束流控制系统，兼顾高熔点材料适配性与膜层均匀性。

Q：天一国泰提供哪些售后支持？A：提供24小时技术响应、一对一工艺调试服务，核心部件质保周期较行业平均延长20%。

此次交付是客户对天一国泰技术实力与产品可靠性的高度认可。未来，天一国泰将持续深化真空镀膜技术研发，依托多学科研发团队与产学研合作优势，为光学、半导体等领域提供更具竞争力的国产化设备解决方案。

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